Установка вакуумного напыления УВН-74П-3

Установка вакуумного напыления УВН-74П-3 (дем3.273.024).

Предназначена для отработки технологи напыления пленочных элементов и схем на ситалловых и поликоровых подложках и серийного производства микросхем.
Описание

Установка вакуумного напыления УВН-74П-3 (дем3.273.024).

Предназначена для отработки технологи напыления пленочных элементов и схем на ситалловых и поликоровых подложках и серийного производства микросхем.
Высокопроизводительная установка спроектирована на базе УВН-70А-2 (установки универсальной автоматической вакуумной откачки). Технологическое устройство размещено в горизонтальной камере. Справа от установки размещается шкаф питания и управления элементами технологического устройства. Установка позволяет получать сплошные пленки различных материалов (меди, алюминия, титана, хрома) в высоком вакууме способом термического испарения на обе стороны подложки за один технологический цикл.
Управление технологическим циклом нанесения проводящих слоев с подслоем обеспечивается в двух режимах – ручном и автоматическом.
Испарение материалов происходит на подложки, которые закреплены в кассетах, установленных в держателях вращающегося барабана. Держатели имеют дополнительное вращение вокруг собственных осей, чтобы за каждый оборот барабана каждая подложка проходила зону испарения попеременно противоположными сторонами.

Технические характеристики:
Производительность установки:
- для ситалловых подложек размером 60*48*0,6мм
- для поликоровых подложек размером 30*24*0,6мм
40шт. /цикл
160шт./цикл
Предельный вакуум в рабочей камере 5*10(-7)мм рт.ст.
Время достижения рабочего вакуума с момента закрытия высоковакуумного затвора
60 мин
Размеры рабочей камеры ю700*550 мм
Диапазон температур нагрева подложек 100-300 градусов С
Количество резистивных испарителей 1 шт.
Максимальная мощность резистивного испарителя 2кВт
Количество электронных испарителей с кольцевым катодом 2 шт.
Максимальная мощность электронного испарителя 2,5кВт
Скорость вращения барабана 30об/мин
Ток ионной очистки 150ма
Максимальная толщина наносимого слоя:
- меди
- алюминия
10мкм
7мкм
Максимальная скорость осаждения меди и алюминия 3мкм/мин
Расход воды температурой 15+10 гр. и давлением 2-4ат. 600+50л/час
Расход воды температурой 85+5 гр. и давлением 2-5ат. 200+50л/час
Давление сжатого воздуха 3-5ат
Максимальная потребляемая мощность 15ква
Габаритные размеры:
- установки
- шкафа управления
1500*2710*2150
950*600*1750
Масса установки:
- установки
- шкафа управления
1250кг
450кг